한-미 특허심사하이웨이 시범 실시

송고 2008.01.14 11:21 | 수정 2008.01.14 11:21

미국의 일반 특허출원에 비해 13개월 빨리 심사 받을 수 있어

앞으로 미국 특허출원이 한결 편리해지고, 심사도 신속히 받을 수 있게 된다.

특허청은 한.미 양국에 공통으로 신청된 특허출원을 통해 어느 한쪽 국가에서 특허가능하다는 심사결과를 받으면, 상대편 국가에서는 해당 특허출원을 다른 출원보다 먼저 심사하는 내용의 ‘한-미 특허심사하이웨이’를 ‘28일부터 시범 실시한다고 14일 밝혔다.

이번 특허심사하이웨이는 우리나라의 특허 심사처리가 세계에서 가장 빠른 점을 외국에서 활용할 수 있게 한다는데 의의가 있다.

즉, 우리나라에서는 특허출원 후 보통 10개월이면 심사결과가 나오는데, 이 때 특허가능하다는 심사결과를 받았다면 미국에 특허심사하이웨이 이용을 신청할 수 있고, 이에 따라 미국에서 일반 특허출원에 비하여 적어도 13개월 더 빨리 심사를 받을 수 있게 된다.

미국에서는 일반출원의 경우 평균 25개월만에 심사를 받을 수 있는 데 비해, 특허심사하이웨이를 이용하는 경우 빠르면 3개월 내지 12개월 이내에 심사를 받을 수 있기 때문이다.

이러한 특허심사하이웨이를 이용하기 위하여 출원인은 한국특허청이 특허가능하다는 판단을 내린 특허의 내용, 심사관련 통지서, 영어번역문을 미국특허청에 제출하면 된다.

이에 따라, 우리 국민이 우리나라 다음으로 특허를 많이 출원하는 미국에서 특허기술을 일찍 사업화할 수 있게 되고, 특허분쟁에 효과적으로 대응할 수 있을 것으로 기대된다.

이번 한-미 특허심사하이웨이 시범실시를 통하여 미국특허청이 우리 특허청의 심사품질을 높이 평가하고 있다는 것을 알 수 있다.

한편 한-미 특허심사하이웨이제도는 2008년 1월 28일부터 2009년 1월 28일까지 1년간의 시범실시 후 양국 특허청이 전면시행 단계로 돌입할 것인지를 결정하게 된다.(대전=김창견 기자)

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