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삼성전자, 파운드리 '승부수'…EUV 라인 구축한다

  • 송고 2018.02.20 10:43 | 수정 2018.02.20 10:53
  • 최다현 기자 (chdh0729@ebn.co.kr)

23일 화성신공장 기공식…6조원 투입 첨단 인프라 설계

EUV 공정 안정화, 파운드리 업계 주도권 지각변동 예고

ⓒ삼성전자

ⓒ삼성전자

삼성전자가 화성 신공장 EUV라인을 바탕으로 파운드리 사업 확대에 주력하고 있다.

20일 관련업계에 따르면 삼성전자 화성 신공장은 EUV(극자외선노광장비)와 같은 첨단 제조장비에 최적화된 인프라를 갖출 전망이다.

◆화성 신공장 6조원 투입해 EUV라인 구축

화성사업장 확장은 삼성전자의 중장기 반도체 전략에 따른 것이다. 삼성전자는 지난해 7월 평택캠퍼스를 가동하면서 화성사업장에 6조원을 투입할 계획을 밝힌 바 있다.

투자계획 발표에 앞서 5월에는 파운드리사업부를 독립시키며 비메모리 반도체 역량을 강화하겠다는 방침을 밝혔다. 그러나 삼성전자가 시장 주도권을 쥔 메모리 반도체와 달리 파운드리 사업은 대만의 TMSC가 시장의 절반을 점유하고 있다.

삼성전자는 지난 1월 실적발표 컨퍼런스콜에서 올해 파운드리업계 2위로 올라설 것을 확신했다. 지난해 4분기에는 중국에서의 매출도 늘었다고 밝혔다. 하지만 1위와의 격차를 좁히기 위해서는 선도적인 기술 개발이 주요 과제로 부상한 상황이다.

화성신공장은 내년에 건물을 준공해 설비 반입, 수율 안정화 절차 등을 거쳐 2020년부터 제품을 양산하는 것이 목표다. 특히 화성 신공장은 EUV 등 첨단 인프라에 최적화된 라인으로 설계돼 미래 반도체 시장을 준비한다는 전략이다.

삼성전자는 화성 공장에 EUV를 대거 반입해 글로벌 파운드리업계 1위인 대만 TSMC를 본격 추격할 전망이다.

◆미세공정 안정화의 벽, 파운드리 주도권 다툼 핵심 부상

삼성전자는 이미 4나노까지 도달하기 위한 기술 로드맵을 발표했으며 현재 제공하는 공정에서 파생된 8나노 공정 개발을 완료한 상태다. 삼성전자의 8나노 공정은 10나노 2세대 공정을 기반으로 개발됐으며 7나노로 가는 직전 공정에 해당한다. 기존 계획 대비 개발 일정이 3개월 앞당겨졌다.

8나노와 7나노는 숫자상으로는 1나노 만큼의 차이가 날 뿐이지만 기술의 벽은 상상 이상이라는 것이 반도체업계의 설명이다. 또한 7나노 공정 기술이 안정화되기 위해서는 EUV가 필수적이라는 주장이 지배적이다.

EUV는 기존 장비보다 파장이 짧은 대역의 빛을 이용하기 때문에 회로 간 간격이 좁아지는 미세공정에 적합하다. 그러나 EUV는 아직까지 양산 수율을 안정화한 업체가 없을 정도로 다루기 어려운 기술로 꼽힌다.

7나노 공정의 테스트 생산에 들어간 TSMC조차 EUV 없이 7나노 공정을 진행하고 있는 실정이다. TSMC는 내년부터 EUV를 도입하겠다는 계획을 발표한 바 있다.

결국 EUV를 활용한 미세공정을 누가 먼저 안정하시키느냐에 따라 파운드리업계의 지각변동이 일어날 수 있는 셈이다.

더불어 삼성전자는 위탁생산 고객사에 반도체 설계기술을 직접 지원하는 협력 프로그램을 도입했다. 위탁생산라인에서 다른 종류의 반도체를 동시에 생산할 수 있는 기술도 개발했다. 이는 제품 개발 기간을 앞당기고 고객사를 다변화하기 위한 전략으로 풀이된다.


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