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삼성전자, 2018년 시설투자 31조8000억원

  • 송고 2018.10.31 09:13 | 수정 2018.10.31 09:14
  • 손병문 기자 (moon@ebn.co.kr)

반도체 24.9조·디스플레이패널 3.7조 투자

삼성전자는 올해 시설투자에 총 31조8000억원을 집행할 계획이라고 31일 발표했다.

올해 시설투자 중 반도체 사업에 24조9000억원, 디스플레이패널(Display Panel) 사업에 3조7000억원 규모를 투자할 방침이다.

3분기 중 반도체 사업에 4조5000억원, 디스플레이패널 사업에 5000억원을 투자했다. 1~3분기 시설투자비 누계액은 22조3000억원으로 집계됐다.

삼성전자 관계자는 "반도체는 메모리의 경우 평택에 생산 라인을 증설해 전년대비 소폭 시설투자가 증가했으나, 파운드리는 지난해 10나노 공정 관련 증설이 완료됨에 따라 올해 투자는 전년대비 감소할 것"이라고 말했다.

또한 "디스플레이도 지난해 플렉시블 OLED 패널 생산량 증설 투자가 집중돼 올해 시설투자는 감소할 것"이라고 덧붙였다.

한편 삼성전자는 올해 3분기(연결기준) 매출 65조4600억원, 영업이익 17조5700억원의 실적을 거뒀다.

삼성전자의 3분기 실적 호조는 반도체 메모리와 OLED 패널 판매 증가가 주효했다. 영업이익은 분기 사상 최대치를 기록했다. 매출은 2017년 4분기(65조9800억원)에 이은 두번째 기록이다.

삼성전자는 향후 사업 계획에 대해 "5G·AI·전장 등 신성장 분야에 대응하기 위해 칩셋과 OLED 등 부품 기술력을 높일 것"이라며 "폼팩터 혁신 및 5G 기술 선도 등 사업 경쟁력을 강화해 지속 성장 사업 기반을 갖춰 나갈 방침"이라고 전했다.


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