삼성전자는 지난해 시설투자에 26.9조원을 집행했다고 30일 밝혔다. 사업별로는 반도체 22.6조원, 디스플레이 2.2조원 규모다.

메모리의 경우 공정 전환에 집중하면서 투자가 줄었고, 파운드리는 EUV 7나노 등 미세공정을 적용 증설로 투자가 늘었다. 디스플레이는 중소형 A4라인 투자가 마무리 돼 투자가 감소했다.

삼성전자의 올해 투자는 수요 변동 상황에 맞춰 탄력적으로 대응할 계획이다.

메모리의 경우 중장기 수요 대응을 위한 인프라 투자는 지속하고, 설비투자는 시황 회복 추이에 맞춰 대응할 방침이다.

시스템반도체와 디스플레이·AI· 5G와 같은 미래 성장 사업의 중장기 경쟁력 강화를 위한 투자는 계획대로 진행할 예정이다.
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