정부, 외투기업·공공연구기관 협력 확대…글로벌 R&D센터 추가 유치 논의

산업통상자원부가 한국전자기술연구원에서 간담회를 개최하고, 글로벌 외투기업과의 협력 강화 방안에 대해 논의했다.

23일 열린 이번 간담회에서 글로벌외투기업과 국내 공공연구기관간 협업을 강화하기 위한 외투기업 전용 R&D(연구개발) 사업 산학연 협력방안과 글로벌 R&D 센터 추가 유치 방안이 상의됐다.  

글로벌 외투기업으론 머크, 코닝, HP 프린팅코리아, 도레이첨단소재, 동우화인캠이, 공공연구기관으론 한국전자기술연구원, 한국기계연구원, 한국재료연구원, 한국전자통신연구원, 한국세라믹기술원, 다이텍연구원이 논의 대상이다.

‘24년부터 시작된 참여 외투전용 R&D 사업은 첫해 높은 경쟁률(7.3:1)과 글로벌기업과 중소·중견기업의 참여 문의 등 현장 수요가 많은 사업으로 국내 R&D 기능강화는 물론 글로벌기업의 추가적인 투자 유인효과와 글로벌 R&D 센터 유치에 기여하는 바가 크다고 평가된다.

이에 산업부는 현금지원 인센티브 확대, 규제개선 등 외국인 투자유치 정책을 외투전용 R&D 사업과 연계해 R&D 센터 및 글로벌지역본부 유치전략을 추진 중에 있다.

산업부 유법민 투자정책관은 “글로벌외투기업의 R&D 활성화를 위해 공공연구기관의 역할과 협조를 당부하고 외투전용 R&D 사업 확대를 위해 관계부처와 지속 협의해 나가겠다”고 말했다.