SK하이닉스, 인피니티시마 'Metron3D 300mm 시스템' 양산 적용

SK하이닉스가 차세대 DRAM 수율을 끌어올리기 위해 나노미터 정밀도의 3차원(3D) 웨이퍼 계측 장비를 양산 라인에 적용한다. 

9일 반도체 업계에 따르면 SK하이닉스는 차세대 메모리 공정 정밀도를 높이기 위해 인피니티시마(Infinitesima)의 3D 웨이퍼 계측 시스템인 'Metron 3D 300mm 인라인 시스템'을 양산 라인에 도입한다.  

해당 시스템은 나노미터 이하의 정밀도로 실시간 공정 제어가 가능해, DRAM 등 첨단 메모리 디바이스 생산에서 수율을 극대화할 수 있다는 평가다.

SK하이닉스는 Metron 3D가 대량 생산 환경(HVM: High Volume Manufacturing)에 적합한 계측 솔루션이라는 점을 입증한 후 본격 적용을 결정한 것으로 전해졌다.

최영현 SK하이닉스 DMI(결함 분석, 계측 및 검사 기술) 담당 선임은 "나노미터 수준에서의 3차원 공정 제어는 고성능 DRAM의 수율 확보에 갈수록 중요해지고 있다"며 "Metron 3D는 비용 효율성과 서브 나노미터 수준의 계측 정밀도를 동시에 만족시켜, HVM 환경에서도 탁월한 성능을 보였다"고 강조했다.

Metron 3D는 인피니티시마가 독자 개발한 RPMTM(Rapid Probe MicroscopeTM) 기술이 적용된 계측 솔루션이다. 기존 원자간력현미경(AFM) 대비 10배에서 최대 100배 빠른 계측 속도를 제공한다. 또 완전 자동화된 웨이퍼 핸들링, 데이터 처리, 프로브 제어 기능을 갖춰 생산 효율성과 공정 일관성을 크게 향상시킨 것이 특징이다.

SK하이닉스는 이번 시스템 도입을 통해 DRAM·NAND 등 메모리 제품의 미세 공정 정밀도를 끌어올리는 동시에, 양산 속도와 품질 확보를 동시에 달성할 수 있을 것으로 기대하고 있다. 

피터 젠킨스 인피니티시마 회장 겸 CEO는 "SK하이닉스와의 협업은 Metron 3D 시스템이 대규모 양산 환경에 빠르게 진입하는 데 큰 도움이 됐다"며 "SK하이닉스의 품질 기준과 기술 역량 덕분에 양사 간 신뢰 기반이 강화되고 있다"고 전했다.

SK하이닉스는 향후에도 반도체 계측·검사 분야의 글로벌 혁신 기술을 지속 도입해 생산 최적화와 제품 품질 고도화를 이어갈 방침이다.